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半导体硅制氮设备(图)

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产品介绍:

半导体硅制氮设备

一般psa纯度:95~99.9995%;:1~3000nm3/h。深冷制氧空分纯度可达到99.6%(特出情况除外)流量可达到3000立方。深冷制氮装置流量可到到6000以上。碳分子筛的孔径分布特性使其能够实现o2、n2的动力学分离。这样的孔径分布可使不同的气体以不同的速率扩散至分子筛的微孔之中,而不会排斥混合气(空气)中的任何一种气体。碳分子筛对o2、n2的分离作用是基于这两种气体的动力学直径的微小差别,制氮机分子的动力学直径较小,因而在碳分子筛的微孔中有较快的扩散速率,,氮气分子的动力学直径较大,因而扩散速率较慢。制氮机压缩空气中的水和二氧化碳的扩散同氧相差不大,而氩扩散较慢。最终制氮机从吸附塔富集出来的是n2和ar的混合气。

半导体硅制氮设备

的节能指标是用气耗比来衡量,在相同的产氮量和纯度下,气耗比=空气量÷产氮量;气耗比大,相对空压机耗能也越大。我公司生产的节能型变压吸附制氮机能耗低,一步直接制取高纯度氮气99.9995%,无需纯化设备,项目投资省、运行成本低、性价比更高。 “凯合空分”: 主要产品:中小型深冷空分设备,psa制氮设备,psa制氧设备,vpsa制氧装置以及压缩空气净化装置。

半导体硅制氮设备

富阳凯合空分设备有限公司

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