一、真空热处理炉用途
真空炉热处理适用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、cvd实验、物质成分测量等。
二、真空热处炉特点
此设备炉门口安 装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体，能抽真空，真空度可达15pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
三、真空热处理炉参数型号tdrg-1200tdrg-1400tdrg-1600tdrg-1700额定温度≤1100℃≤1300℃≤1500℃≤1600℃加热元件电阻丝硅碳棒硅钼棒硅钼棒测温元件k型s型b型b型电源功率220v/380v 1kw-20kw控制精度泄漏率：<5 mtorr /min、温控精度±1℃升温速率10℃/min max:20℃/min正负压力承受正压：0.05mpa；真空度1、若使用vp系列单级旋片机械泵+cf法兰+针型阀，则真空度可达100pa
2、若使用2xz系列双级旋转机械泵+kf法兰+真空球阀，则真空度可达10pa
3、若使用国产或进口分子泵+kf法兰+真空挡板阀，则真空度可达10-3pa可充气氛氮气、氧气和氩气及其它惰性气体、混合气体四、售后服务
1、客户的技术疑问，我们承诺在5个小时内处理完毕。
2、返厂维修的设备我们承诺在3个工作日内出具检测结果，10个工作日内完成维修，特殊材料需订制，酌情处理。
3、设备返给客户后1周之内对用户进行回访，并提供相关技术的免费咨询。
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