镀层膜厚测试仪性能，可测量任一测量点，最小可达0.025 x 0.051毫米。能够测量包含原子序号13至92的典型元素的电镀层、镀层、表膜和液体,极薄的浸液镀层（银、金、钯、锡等）和其它薄镀层。区别材料并定性或定量测量合金材料的成份百分含量可同时测定最多5层、15 种元素。 精确度领先于世界，精确到0.025um (相对与标准片)
数据统计报告功能允许用户自定义多媒体分析报告格式，以满足您特定的分析报告格式要求 ；如在分析报告中插入数据图表、测定位置的图象、cad文件等。 统计功能提供数据平均值、误差分析、最大值、最小值、数据变动范围、相对偏差、ucl(控制上限)、lcl(控制下限)、cpk图、直方图、x-bar/r图等多种数据分析模式。 xulm x射线荧光测厚仪能够测量多种几何形状各种尺寸的样品；
膜厚仪操作 winwif系统、win系统及fim系统，其最适合用于微电子器件、数据偶合器、光通讯和数据贮存、半导体、光通讯、微电子、光子学、无源器件和薄层磁头金属化分析等。
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